Chemshunplaca de poliment de galeta d'alúminaLa taula giratòria està feta d'alúmina d'alta puresa del 99,7-99,9%. La ceràmica d'alúmina d'alta puresa presenta una rigidesa excepcional i una excel·lent resistència al desgast per al polit de les oblies i manté una bona forma superficial durant un llarg període de temps. Està modelada per PIBM. Forma part de la indústria dels semiconductors per la seva estabilitat tèrmica i dimensional inigualable i la seva resistència a entorns severs d'equips de processament de microxips.
La planarització químico-mecànica (CMP), també coneguda com a poliment químico-mecànic, és una tecnologia en el procés de fabricació de dispositius semiconductors. Utilitza la corrosió química i les forces mecàniques per aplanar les oblies de silici o altres materials de substrat durant el processament.
L'equip CMP es divideix principalment en dues parts: la part de poliment i la part de neteja. La part de poliment consta de 4 parts, concretament 3 plataformes giratòries de poliment i un mòdul de càrrega i descàrrega d'oblies. La part de neteja és responsable de la neteja i l'assecat de l'oblia per aconseguir el "secatge" de l'oblia. En tot l'equip de poliment, la ceràmica d'alúmina juga un paper important.
La ceràmica d'alúmina s'utilitza normalment per preparar discs de polit de galetes, que requereixen una alta puresa, una alta durabilitat química i un bon control de la forma i la rugositat de la superfície.
El disc de mòlta ceràmica Chemshun 99,7% Al2O3 està fet de materials ceràmics avançats, adequats per a la mòlta fina de diversos materials, especialment per a la mòlta de materials fràgils com ara oblies, ceràmica i vidre. El nostre disc de mòlta ceràmica es pot fabricar en diferents mides segons els diferents models de mòlta i polit.
Data de publicació: 30 de maig de 2025